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單原子層沉積（ALD）由于其沉積參數(shù)的高度可控性（厚度，成分和結(jié)構(gòu)）。優(yōu)異的沉積均勻性和致密性，使得其鍍層的阻水率能達(dá)到10-3以上。 真空鍍膜有蒸鍍、濺射（PVD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）、原子層沉積（ALD）。
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